理學院
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學院概況
理學院設有數學系、物理學系、化學系、生命科學系、地球科學系、資訊工程學系6個系(均含學士、碩士及博士課程),及科學教育研究所、環境教育研究所、光電科技研究所及海洋環境科技就所4個獨立研究所,另設有生物多樣性國際研究生博士學位學程。全學院專任教師約180人,陣容十分堅強,無論師資、學術長現、社會貢獻與影響力均居全國之首。
特色理學院位在國立臺灣師範大學分部校區內,座落於臺北市公館,佔地約10公頃,是個小而美的校園,內含國際會議廳、圖書館、實驗室、天文臺等完善設施。
理學院創院已逾六十年,在此堅固基礎上,理學院不僅在基礎科學上有豐碩的表現,更在臺灣許多研究中獨占鰲頭,曾孕育出五位中研院院士。近年來,更致力於跨領域研究,並在應用科技上加強與業界合作,院內教師每年均取得多項專利,所開發之商品廣泛應用於醫、藥、化妝品、食品加工業、農業、環保、資訊、教育產業及日常生活中。
在科學教育研究上,臺灣師大理學院之排名更高居世界第一,此外更有獨步全臺的科學教育中心,該中心就中學科學課程、科學教與學等方面從事研究與推廣服務;是全國人力最充足,設備最完善,具有良好服務品質的中心。
在理學院紮實、多元的研究基礎下,學生可依其性向、興趣做出寬廣之選擇,無論對其未來進入學術研究領域、教育界或工業界工作,均是絕佳選擇。
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Item 低維度手性鈣鈦礦暨高分子之光學特性研究與分析(2022) 林恩綺; Lin, En-Chi本文研究三種材料:近年來鈣鈦礦著重研究的結構-準二維(Quasi-two-dimensional)下的Ruddlesden-Popper Perovskite(RPP)結構鈣鈦礦、日前逐漸引起關注的手性鈣鈦礦(chiral perovskites),以及有機高分子材料。在準二維下的RP鈣鈦礦的研究中,本文選擇有機鹵化鈣鈦礦PEA2(FABr3)2PbBr4做研究,透過旋塗製程、熱退火製程形成鈣鈦礦薄膜並且使用蒸鍍製程實現發光二極體元件,其中以Quinhydrone(QH)的溶液來對鈣鈦礦薄膜進行表面鈍化的處理,並針對研究結果做討論。在手性鈣鈦礦的研究中本文透過旋塗製程、熱退火製程做出低維度(S-/R-MBA)2(Cs0.8MA0.2)n – 1PbnBr3n + 1的薄膜,並著重在= 2化學劑量下的基礎改變手性配體 S-/R-MBABr的比例。研究結果顯示可以透過一般化學劑量製作出純相= 1的薄膜,然 = 2結構則為 = 1以及= ∞ 組成,並未出現預期的純相= 2結構,因此分析其原因;並且在不依靠公認的化學劑量配方調配手性配體後,可以將圓二色光譜的gabs值可以高達~0.01(10-2等級),可供日後製程研究上的參考。 有機高分子材料的研究中本文選用PTB7-Th (Poly{4,8-bis[5-(2-ethylhexyl)thiophen-2-yl]benzo[1,2-b:4,5-b']-dithiophene-2,6-diyl-alt-3-fluoro-2-[(2-ethylhexyl)carbonyl]-thieno[3,4-b]thiophene-4,6-diyl}),PM6(PBDB-T-2F)( Poly[(2,6-(4,8-bis(5-(2-ethylhexyl-3-fluoro)thiophen-2-yl)-benzo[1,2-b:4,5-b’]dithiophene))-alt-(5,5-(1’,3’-di-2-thienyl-5’,7’-bis(2-ethylhexyl)benzo[1’,2’-c:4’,5’-c’]dithiophene-4,8-dione)]),PM7(PBDB-T-2Cl)(Poly[(2,6-(4,8-bis(5-(2-ethylhexyl-3-chloro)thiophen-2-yl)-benzo[1,2-b:4,5-b’]dithiophene))-alt-(5,5-(1’,3’-di-2-thienyl-5’,7’-bis(2-ethylhexyl)benzo[1’,2’-c:4’,5’-c’]dithiophene-4,8-dione)])的溶液作為研究對象,透過改變溶液溫度以及濃度進行光譜的量測探討其於H/J聚集型態下的激子離域現象,研究結果顯示透過調整溫度與濃度可獲得H/J聚集型態改變,並且也獲得了PTB7-Th, PM6, PM7的濃度分別為0.116 mg/ml, 0.115 mg/ml, 0.05 mg/ml時具有230 meV,184 meV,160 meV的戴維多夫分裂(davydov splitting)。Item 三級胺之氮取代基立體效應應用於鹵素鈣鈦礦電觸媒表面鈍化(2023) 曹凱崴; Tsao, Kai-Wei成功製備具電催化效能之泡沫鎳(NF)/自組裝單分子層(SAM)/FA(Pb1-xGex)I3–surfactant鈣鈦礦電極,並應用於染料敏化太陽能電池(DSSC)中的高性能對電極。將不同的自組裝單分子層如ethane-1,2-diol (EDO)、ethane-1,2-dithiol (EDT)、ethane-1,2-diamine (EDA)、bezene-1,4-diol (BDO)、benzene-1,4-dithiol (BDT)、benzene-1,4-diamine (BDA)和6-mercaptopyridine-3-carboxylic acid (6-MNA)分別吸附在泡沫鎳上,之後將FA(Pb1-xGex)I3-THA前驅溶液滴在NF/SAM電極上,以建立泡沫鎳與FA(Pb1-xGex)I3薄膜間的電荷轉移途徑。當自組裝單分子層具有較小的乙烷橋時(EDA、EDO、EDT),能提供染敏電池較高的短路電流。反之當自組裝單分子層具有較大的苯橋時(BDA、BDO、BDT),其短路電流較低。基於同一苯橋或乙烷橋時,短路電流會隨著末端官能基與鈣鈦礦的配位強度提升而增加,由雙胺基(diamine)至雙羥基(diol)至雙硫醇基(dithiol)。填充因子會隨著自組裝單分子的溶解度上升而增加,由雙硫醇基(dithiol)至雙胺基(diamine)至雙羥基(diol)。引入不對稱的6-MNA可使羧基錨定在泡沫鎳上,以及硫醇基與鈣鈦礦薄膜良好配位,達到最佳的短路電流和填充因子。通過使用多種鈍化劑,包括tri-n-hexylamine (THA, N(C6H13)3)、N,N-dihexylaniline (DHA, N(C6H5)(C6H13)2)、N-hexyl-N-phenylaniline (HPA, N(C6H5)2(C6H13)2)、triphenylamine (TPA, N(C6H5)3)、9-hexylcarbazole (HC, N(C12H8)(C6H13))、vinylcarbazole (VC, N(C12H8)(C2H3))、polyvinylcarbazole (PVC, (N(C12H8)(C2H3))n),製備各種FA(Pb1-xGex)I3–surfactants電極。所有鈣鈦礦電極在高於75%相對濕度中均表現出良好的α-FAPbI3結晶,並保持至少4個月良好的熱力學穩定性而沒有明顯的晶體分解。提升鈍化劑的苯基數量從0個苯基(THA)增加到1個苯基(DHA)、2個苯基(HPA)和3個苯基(TPA),可有效提升鉛與苯基的配位能力與表面疏水性,但苯環的堆疊使鈣鈦礦晶體變大的同時還降低了薄膜導電性和均勻性。提升鈍化劑的共軛特性由HPA至HC時,可增益與鉛的配位能力與電子傳輸能力。在含有carbazole的鈍化劑中,減少在氮取代基上的碳鏈長度會導致立體障礙減少與增加薄膜導電度。由最佳化的NF/6-MNA/FA(Pb1-xGex)I3-THA電極在一個太陽光下提供其染敏電池9.69%並在6000流明下提供25.38%的光電轉換效率,顯示出比白金電極(NF/Pt, 7.89%)更具競爭力的電催化性能。Item 鈣鈦礦與磁性金屬、二硫化鉬之介面特性分析(2022) 林子恩; Lin, Zih-En鈣鈦礦為新興太陽能電池材料,並且近年已有許多研究報導其光電性質[1,2],但少有提及表面形貌。在先前研究中我們發現鈣鈦礦MAPbBr3無法在鐵鈀合金表面形成均勻且連續的薄膜,會呈現奈米柱狀結構並且有裸露的合金金屬層[9]。在本實驗中,我們發現以石墨烯層插層於鈣鈦礦與鐵磁層之間可使鈣鈦礦形成均勻連續薄膜。由原子力顯微鏡 (AFM) 剖面圖可觀察到:在鐵磁層表面粗糙度小於1 nm,在轉移石墨烯後約有 2 nm,在旋塗鈣鈦礦之後約有6 nm。在AFM形貌圖以及剖面圖可以看出鈣鈦礦於石墨烯上形成連續薄膜。此技術應用於元件製成可防止鈣鈦礦與金屬層的層間短路,使元件正常運作。二硫化鉬具有良好的載子遷移率,可作半導體材料,但仍有光吸收率相對不高的缺點[3]。鈣鈦礦/二硫化鉬異質結構具有較高光吸收率。但雖有許多關於鈣鈦礦/二硫化鉬結構光電性質的文章[4,5],但對於鈣鈦礦在二硫化鉬上表面形貌的研究仍然缺乏。將鈣鈦礦旋塗於二硫化鉬上之後,在AFM形貌圖仍可分辨二硫化鉬的形狀,並且可見在二硫化鉬上的鈣鈦礦較基板上的緻密。在SEM圖的分析中,在二硫化鉬上的鈣鈦礦粒徑約在20 nm,在基板上約在30 nm。旋塗鈣鈦礦會造成二硫化鉬光致發光 (PL) 峰值的猝滅,並且造成峰值紅移。依文獻報導猝滅是因為鈣鈦礦到二硫化鉬的電荷轉移,紅移是因為二硫化鉬上量子點的n型摻雜效應[4]。形狀會影響二硫化鉬PL峰值。在旋塗鈣鈦礦後,缺角三角形二硫化鉬的PL峰值較三角形位移多,在3 ~12 nm區間,三角形的位移則在3 nm以內。在旋塗鈣鈦礦之後量測鈣鈦礦PL峰值位置,缺角三角形上的鈣鈦礦PL峰值比起三角形二硫化鉬藍移3 ~ 5 nm。文獻[52]中提及鈣鈦礦顆粒大小會影響PL峰值高低,我們推測可能由於三角形與缺角三角形上鈣鈦礦顆粒大小差異而影響PL峰值,但仍需進一步實驗確認。以450 nm藍光雷射照射鈣鈦礦/二硫化鉬結構,其中二硫化鉬從單層至6層,發現二硫化鉬PL峰值幾乎沒有變化,但峰值強度有減少的現象。Item 量子點和鈣鈦礦二維材料之特性與應用(2021) 陳庭慶; Chen, Ting-Qing本論文共分三個部分:1.鈣鈦礦量子點-PCL(polycaprolactone)複合材料;2.CdSe量子點發光二極體的電洞注入層及電洞傳輸層之參雜;3.PbBr2及醋酸鉛二維晶體之研究。第一部分,我們合成CsPbBr3鈣鈦礦量子點,因為量子點具有量子侷限效應,所以我們藉由調控量子點粒徑大小得到460nm,到515nm光波長的CsPbBr3鈣鈦量子點。由於鈣鈦礦量子點在大氣下不易儲存,因此將量子點與高分子材料PCL混合,做出複合材料,研究結果顯示,由於我們用高分子材料包覆量子點,讓鈣鈦礦量子點在大氣環境下,能夠保存更久的時間。第二部分,我們使用全溶液製程製作CdSe的量子點發光二極體。在電洞注入層poly(3,4-ethylenedioxythiophene) polystyrene sulfonate (PEDOT:PSS)參雜不同比例的P105分散劑,找到PEDOT:PSS參雜的最佳條件後,接著電洞傳輸層poly(9-vinylcarbazole)(PVK)參雜1,1-Bis[(di-4-tolylamino)phenyl]cyclohexane (TAPC)接著加上Bis[3,5-di(9H-carbazol-9-yl)phenyl]diphenylsilane (SimCP2),依序對這一系列參雜不同比例,觀察對發光二極體元件的影響。電洞注入層最佳參雜比例使表面粗糙度從3.1853nm下降到2.0144nm,而元件的量子效率也從2.23%達到3.33%,結果表明適當得參雜可以有效的改善元件載子的注入能力。最後,我將PbBr2及醋酸鉛在二氧化矽的基板上生長二維材料晶體,並改善製程,使得我可以得到較大或較薄的晶體,其中,醋酸鉛晶體可以長到約6um的六角形晶體,我使用AFM觀察其厚度,最薄到達20nm。接著,我使用其他材料(MABr、MAI)個別與兩種晶體反應,使我最後能得到鈣鈦礦的薄片晶體。Item 鈣鈦礦與鐵磁層交互作用與磁阻元件製作(2021) 吳柄村; Wu, Bing-Tsun在先前的研究中,我們發現在FePd薄膜上成長的MAPbBr3會是離散圓盤狀的鈣鈦礦,對於製作元件來說這會導致裸露的FePd薄膜讓電子直接短路,於是在本研究中我們利用了氧化鋁(AlOx)作為插層,在鈣鈦礦MAPbBr3與鐵磁層Co和Fe中間插入AlOx薄膜,成功成長出連續性且均勻的MAPbBr3薄膜,根據原子力顯微鏡顯示其粗糙度約為15 nm,磁光柯爾顯微鏡的結果也顯示出旋塗上MAPbBr3薄膜不會對下方鐵磁層磁性有所影響。在近期的研究顯示出CsPbBr3相對於MAPbBr3具有較高的熱穩定性,且我們發現CsPbBr3旋塗於金屬層上為連續均勻的薄膜。根據上述的結果,鈣鈦礦CsPbBr3可能具有高的應用潛力。因此我們對於CsPbBr3與鐵磁層的交互作用進行研究。我們在方格陣列Co薄膜厚度分別為6 nm、10 nm、12 nm與16 nm旋塗上CsPbBr3,此四種樣品在旋塗CsPbBr3前後的矯頑場均無改變,接著觀察到6 nm與10 nm樣品的矯頑場會隨著第一次雷射光照射的時間有逐漸降低的趨勢,其中10 nm的樣品在照射24分鐘後會量測不到磁性,然後在關閉雷射後放置一小時並再次照光30分鐘後,此時的矯頑場會提升至74.5 Oe,而12 nm與16 nm的樣品則有相反的現象,在雷射光照射下,樣品的矯頑場會隨著雷射照射時間有逐漸增加的趨勢,其中12 nm的樣品在照射28分鐘後會量測不到磁性,而在關閉雷射一段時間後矯頑場會提升至150 Oe,從結果也能發現當雷射光照射時,如果矯頑場有變化且磁性還能被量測到的樣品,在放置一段時間後,矯頑場並不會有回復的特性,根據原子力顯微鏡也能觀察到當給予兩次30分鐘的雷射照光時,粗糙度會從17.9 nm提升至22 nm與27.6 nm。因此,我們推測藍光雷射的照射會改變CsPbBr3的特性,同時也會改變下方的磁性金屬層。Item 無機鹵素鈣鈦礦/磁性金屬薄膜 -雙層異質結構之形貌、磁性及熱穩定性分析(2021) 陳廷豪; Chen, Ting-Hao在這項研究中我們主要使用物理氣相沉積法(Physical vapor deposition, PVD)製備鐵鈀合金薄膜,並且利用旋轉塗佈法將鈣鈦礦(CsPbBr3)量子點旋塗於表面,接續觀察樣品在旋塗前後(CsPbBr3/FePd v.s FePd)的變化,包括表面形貌、光學及磁性,並且觀察不同退火溫度(100˚C ~ 180˚C)後的轉變。CsPbBr3/FePd在原子力顯微鏡(AFM)量測下,我們發現表面在經退火後粗糙度大致不變,且平均約為±10 nm高低且誤差值為1.5 nm。從掃描式電子顯微鏡(SEM)發現量子點為平均大小約11 nm的正方形,並且退火180˚C後有融合的現象。透過光致螢光(PL)的數據分析我們得知在退火100˚C後,光訊號強度下降了3/4,且發光波長有紅移4 nm的現象。最後經由磁光柯爾量測從室溫到退火160˚C,FePd樣品的矯頑場增加了74 %,而CsPbBr3/FePd樣品的矯頑場僅增加了19.2 %;由此結果方知CsPbBr3是一個可以保護磁性材料的覆蓋層。Item 近紅外光鈣鈦礦發光二極體之特性分析(2020) 王大朋; Wang, Da-Peng本研究透過加入長鏈有機陽離子鹵化物於三維鈣鈦礦前驅液中,使其鈣鈦礦結構能夠轉換成為準二維結構。並利用光學顯微鏡、掃描式電子顯微鏡、原子力顯微鏡、吸收光譜與光致發光光譜等設備以研究其薄膜特質。結果證實,長鏈有機陽離子鹵化物的引入會使得鈣鈦礦的晶粒變小,以至於其放光光譜有藍移的現象。並與三維結構之鈣鈦礦相較而言,擁有更加平整且無孔隙的鈣鈦礦薄膜。 元件方面,長鏈有機陽離子鹵化物的加入會使得鈣鈦礦元件的外部量子效率從0.04%上升至1%。研究中更透過阻抗量測等分析來瞭解效率提升之原因。本研究更透過調整電洞注入層、電洞傳輸層、電子傳輸層、電子注入層等的厚度來將元件效率最佳化,使之能夠達到2%的外部量子效率。此外,為了減少元件製作成本以利商業化,除了利用熱蒸鍍的方式製備電子傳輸層,也用旋塗的方式製作。本研究證實以旋塗方式製備電子傳輸層的元件效率與使用熱蒸鍍方式製備的元件效率沒有太大的差異。更進一步的,本研究證實透過對電洞傳輸層的摻雜,能夠免去鈣鈦礦旋塗製程前所需要的電漿處理步驟,除了免除經過電漿處理對電洞傳輸層造成傷害之疑慮,並且所得到的元件效率與透過電漿處理的元件效率也不會差異太多。