光電工程研究所

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本所於民國91年成立碩士班,94年成立博士班。本所成立之宗旨及教育目標在於培育符合社會所需的光電科技專業人才,本所發展目標在於實現學界對於國內產業的關懷與參與之願景,並朝向「產業知識化、知識產業化」的發展趨勢與需求邁進。近年來,本校已轉型為綜合研究型大學,依據校務整體發展計畫與本所發展策略規劃之需求,將能提供本所未來發展之參考與願景。

本所研究方向 :
一、光電材料與元件模組
二、奈米生醫及醫學影像

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    雷射光致奈米記錄點於鍺銻碲相變化材料之特性研究
    (2007) 張宏偉; Hong Wei Chang
    本實驗利用雷射光泵探系統(pump and probe laser system)於不同厚度之Ge2Sb2Te5相變化薄膜上寫下記錄點矩陣,欲分析在改變膜層厚度條件下,記錄點之光學反射訊號及表面形貌的改變。實驗中經由以下幾點進行分析:(a)、雷射光探測系統,可藉由光學反射強度進而了解記錄點不同相態(phase state)之改變關係;(b)、透過原子力顯微儀(atomic force microscopy),可知記錄點表面的形貌(surface topography)起伏與變化,藉此了解雷射光束對相變化材料造成之物理形變為何;(c)、透過導電式原子力顯微儀(conductive-atomic force microscopy),可知記錄點表面之導電性強弱,藉以分析不同相態之記錄點電性為何;(d)、透過歐傑能譜(Auger electron spectrum)分析,可對樣品表面進行元素成分分析,探討實驗中之表面氧化(surface oxidized)及不連續缺陷區域(defect of surface discontinuity)議題;(e)、透過加熱平台(heating stage),在加熱下進行原子力顯微儀掃描,可得不同溫度下,寫下記錄點表面變化情形及相變化薄膜電性之改變。