光電工程研究所

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本所於民國91年成立碩士班,94年成立博士班。本所成立之宗旨及教育目標在於培育符合社會所需的光電科技專業人才,本所發展目標在於實現學界對於國內產業的關懷與參與之願景,並朝向「產業知識化、知識產業化」的發展趨勢與需求邁進。近年來,本校已轉型為綜合研究型大學,依據校務整體發展計畫與本所發展策略規劃之需求,將能提供本所未來發展之參考與願景。

本所研究方向 :
一、光電材料與元件模組
二、奈米生醫及醫學影像

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    超導薄膜層狀結構表面阻抗之計算
    (2009) 陳耀立; Yao-Li Chen
    這篇論文有六個章節。第一個章節是介紹超導體電磁基本特性,第二章節是敘述我們計算表面阻抗的理論及方法去。第三章節是我們要在半導體基板上求得超導體薄膜在中紅外光的頻段下的表面阻抗,在第三章節第一個結構下存在著一個導體薄膜的臨界厚度,能使整個結構的損耗達到最低,而且半導體的高頻相對介電常數也影響著超導體的表面阻抗,而在第三章節第二個結構中,半導體基板為有限的厚度,我們研究基板共振的情形。第四章節我們在鐵磁基板上求得超導薄膜的表面阻抗,我們分別改變超導體厚度以及鐵磁基板厚度,研究其表面阻抗的變化。第五章節是在超導體與半導體的周期結構下,除了探討一般的正向入射的情況外,還會探討斜向入射的情況,在正向入射的情況下,在不同的周期數時存在著一個超導薄膜的臨界厚度,能使整個結構的損耗達到最低,而在斜向入射的情況下,我們針對不同的周期數,其入射角對於表面阻抗之變化情形,也有加以探討,最後在第六章節是我們的結論。