一種懸空結構的製造方法
| dc.contributor | 國立臺灣師範大學機電工程學系 | zh_tw |
| dc.contributor.author | 楊啟榮 | zh_tw |
| dc.contributor.author | 林明憲 | zh_tw |
| dc.contributor.author | 李明承 | zh_tw |
| dc.date.accessioned | 2014-10-30T09:36:24Z | |
| dc.date.available | 2014-10-30T09:36:24Z | |
| dc.date.issued | 2009-06-21 | zh_TW |
| dc.description.abstract | 一種懸空結構的製造方法,包含下列步驟:(1)提供一矽基板;(2)定義一圖形於該矽基板上,該圖形則具有一保留區與一蝕刻區;(3)以電化學蝕刻,是對該矽基板通以一電場並輔以一蝕刻液進行蝕刻,其中對該電場施以一第一電流密度,將該蝕刻區下方的矽基板去除,致使該保留區下方即形成一預備懸空結構,則該預備懸空結構具有一底部與該矽基板連接;以及(4)改變該電場的電流密度至一高於該第一電流密度的第二電流密度,藉以去除該底部,而使該預備懸空結構懸空於該矽基板上而成為一懸空結構。 | zh_tw |
| dc.identifier | ntnulib_tp_E0403_04_020 | zh_TW |
| dc.identifier.uri | http://rportal.lib.ntnu.edu.tw/handle/20.500.12235/37047 | |
| dc.language | chi | zh_TW |
| dc.relation | (專利申請案號：095119268) | zh_tw |
| dc.title | 一種懸空結構的製造方法 | zh_tw |