KrF雷射對PMMA-15% Diphenyl厚膜光阻之光刻特性探討
| dc.contributor | 國立臺灣師範大學機電工程學系 | zh_tw |
| dc.contributor.author | 楊啟榮 | zh_tw |
| dc.contributor.author | 馬偉中 | zh_tw |
| dc.contributor.author | 謝建文 | zh_tw |
| dc.contributor.author | 謝佑聖 | zh_tw |
| dc.contributor.author | 李育德 | zh_tw |
| dc.date.accessioned | 2014-10-30T09:36:17Z | |
| dc.date.available | 2014-10-30T09:36:17Z | |
| dc.date.issued | 2001-12-07 | zh_TW |
| dc.identifier | ntnulib_tp_E0403_02_001 | zh_TW |
| dc.identifier.uri | http://rportal.lib.ntnu.edu.tw/handle/20.500.12235/36966 | |
| dc.language | chi | zh_TW |
| dc.relation | 2001 中國機械工程學會（CSME）第18屆全國學術研討會論文集，頁49-54，台北：國立台灣科技大學，臺灣。 | zh_tw |
| dc.title | KrF雷射對PMMA-15% Diphenyl厚膜光阻之光刻特性探討 | zh_tw |