射頻磁控濺鍍法研製直接耦合高溫超導量子干涉元件磁量計與特性研究

Abstract

在磁控濺鍍的系統下，發現階梯高度跟薄膜厚度比會影響SQUID訊號的好壞。本實驗中在其他條件都盡量能控制在一定的範圍內，試了三種不同的高度比，發現三種比例中階梯跟薄膜的高度比1:0.9的Vpp有三個SQUID超過10 μV為最好。